據消息稱，近期中科院傳出喜訊，國產光刻機研發工作取得了關鍵性突破。據了解中科院下屬的上海光學機械研究所近日成功攻克EUV光刻機上的OPC技術，此項技術的掌握，使得在硬件不動的的情況下優化光刻機，提升光刻機分辨率，使得制造更加的高效。

就整機而言，上海微電子完全具備了90納米光刻機的整機制造能力，目前在28納米光刻機上進行突破，預計會在年底開始下線生產。清華研究所傳出消息，已經與德國聯邦技術學院達成了合作，進行更加先進的研發工作。

此前光刻機制造商阿斯麥和張忠謀都曾公開表示，中國無法造出一樣的光刻機。一個國家也不可能建立完整的半導體產業鏈。但是對于我們在光刻機這一領域所獲得的新進展，可以來講，也是臺積電以及阿斯麥萬萬沒料到的。

國內在半導體領域進行自主研發，所獲得的成果令人十分欣喜的，按照目前來看，也就意味著不遠的將來，國內半導體行業無需再收到任何國家的阻礙和限制。